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| 公司名稱： |
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公司類型： |
企業(yè)單位 (制造商) |
| 所 在 地： |
青島市 |
公司規(guī)模： |
1-49人 |
| 注冊資本： |
300萬人民幣 |
注冊年份： |
2016 |
| 資料認證： |
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| 經營模式： |
制造商 |
| 經營范圍： |
氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規(guī)模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸.LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數大，故可采用密集裝片方式來提高生產率。 真空擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、大規(guī)模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。 |
| 銷售的產品： |
氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結爐,氫氧點火爐,半導體用真空燒結爐 |
| 采購的產品： |
氧化擴散爐,真空擴散爐,氫氣燒結爐,氫氧點火爐,半導體用真空燒結爐 |
| 主營行業(yè)： |
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